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光學膜技術發展與市場探討

來源：新材料在線|

發表時間：2015-12-03

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2015光學膜市場與技術發展論壇于11月25日在深圳會展中心會議室舉行，論壇旨在增進行業上下游的交流，共同探討光學膜的技術發展與市場現狀。會議圍繞ITO光學膜、硬化膜等膜方面的現狀及未來趨勢、精密涂布、濕法涂布及涂布設備等涂布工藝和流程的問題、注意要點等議題進行充分討論。

首先由中科院寧波材料技術與工程研究所的宋偉杰研究員就面向平板顯示的透明導電膜技術的膜材料演變及發展進行了探討，指出短期內市場上應用最為廣泛的仍然會是ITO薄膜，ITO膜具有大面積均勻性好，腐蝕特性好等特性是目前市場上其他薄膜如金屬網格、納米銀、石墨烯、導電聚合物等所不具備或不成熟的。同時指出目前透明導電膜的應用領域較窄，未來市場廣闊。

張家港康得新光電材料有限公司的宋明雄技術總監主要介紹了精密涂布制備工技術的相關知識，指出精密涂布核心技術所在。并纖細講述了Slot Die、Micro Gravure等常見涂布工藝及要點，最后分享了涂布制備中常見問題及解決方案與同行進行了溝通交流。

蘇州漢納材料科技有限公司的千野直義高級顧問及陳新江總經理向我們講述了光學膜制造中的濕法涂布技術中的注意要點及解決方案，指出涂布過程中應注意膜和液體的表面張力的大小，只有兩者的表面張力接近時才會有很好的涂布效果，也指出只有相鄰兩種液體的表面張力相接近時才能同時進行多種涂布。千野先生還表示常見的涂布方式有comma、direct gravure直接凹印、reverse gravure反向凹印、air knife氣刀涂布等方式，但看好wire bar和Die兩種涂布工藝。